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光学膜厚测量仪常见运用于薄膜厚度测量

作者: admin 时间:2017-04-13 来源:未知
摘要:所谓光学膜厚仪也就是利用光学原理来测量物体的厚度,那么捷扬品牌这款JFD-2000膜厚检测仪是用来测量什么物体的厚度呢?我们最常见的就是薄膜的厚度,大家都知道薄膜是非常薄的...


       所谓光学膜厚仪也就是利用光学原理来测量物体的厚度,那么捷扬品牌这款JFD-2000膜厚检测仪是用来测量什么物体的厚度呢?我们最常见的就是薄膜的厚度,大家都知道薄膜是非常薄的物体之所有才叫薄膜,那一般的测厚方法肯定是得不到精准的数据的,要想精度获得薄膜的厚度,必须使用捷扬品牌的JFD-2000膜厚检测仪。下面给大家简单介绍一下这款膜厚仪。


捷扬光电JFD-2000光学膜厚测量仪,测量膜层厚度从1nm到3.5mm。利用反射干涉的原理进行无损测量,可测量薄膜厚度及光学常数。测量精度达到埃级的分辩率,测量迅速,操作简单,界面友好,是目前市场上具性价比的膜厚测量仪设备。设备光谱测量范围从近红外到紫外线,波长范围从200nm到2500nm可选。凡是光滑的,透明或半透明的和所有半导体膜层都可以测量。


成功测量光刻胶要面对一些独特的挑战, 而 捷扬光电 自动测量系统成功地解决这些问题。 这些挑战包括避免测量光源直接照射, 拥有涵盖广泛的光刻胶折射率资料库, 以及有能力处理光刻胶随烘烤和暴露而改变的折射率。

测量JFD-2000 膜厚检测仪 其它厚光刻胶的厚度有特别重要的应用。 因为旋涂的方法虽简便快速,但可能会导致所需厚度不太准确。 而暴露时间取决于光刻胶的厚度, 因此必须进行准确测量。 另外,由于正负光刻胶可以同时用于制造复杂的多层 MEMS 结构, 了解各层的厚度就变得极端重要。

捷扬光电 提供一系列的和测绘系统来测量 3nm 到 1mm 的单层、 多层、 以及单独的光刻胶薄膜。 捷扬光电JFD-2000膜厚检测仪 能通过准确的光谱反射建模来测量厚度 (和折射率)。 自主研发的算法使得“一键”分析成为可能,通常在一秒钟内即可得到结果。

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捷扬光电 提供 免费测试 - 一般1-2 天即可得到结果。

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